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在半导体生产过程中，集成电路的集成度越高，对水质的要求越高，对超纯水设备的处理工艺、产品的简易性、自动化程度、生产的连续性和可持续性提出了更严格的要求。纯水设备采用EDI技术，减少污染，符合绿色环保工艺生产的特点。与其他类似产品相比，具有更高的成本性能和设备可靠性。因此，每个半导体人都应该知道以下关于纯水设备的知识。“超纯水”开始使用的目的是什么?
很久之前，超纯水是为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产的水，是一种除了水分子外几乎无其他杂质的水。
传统超纯水制取工艺有哪些弊端?
传统的超纯水制取工艺通常采用离子交换树脂，但需要经常进行树脂再生，既消耗物质资源又消耗劳动力。经过多年的实践，采用反渗透加离子交换系统(或EDI)结合膜分离技术制取超纯水。
超纯水设备组成部分有哪些?
纯水设备采用预处理、反渗透技术、超纯化处理和后级处理等方法，几乎完全去除水中的导电介质，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度。超纯水系统设备的脱盐核心部件为反渗透膜组件、EDI系统和抛光混合床。超纯水系统设备通常由预处理部分、反渗透主机部分和后处理部分组成。
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