实验室无掩膜曝光机产品特点：
数字光刻系统
微纳器件无掩模版直写光刻
光掩模版制作
3D结构曝光功能
自动对准功能
用户自定义标记对准功能
可视化定点曝光功能
自动聚焦功能
不规则样片曝光
快速、精细两种曝光模式
支持多种数据格式（GDSⅡ/ Gerber/ O DB++）
背部对准功能（选配）
405nm LD光源（375nm可选）
https://www.chem17.com/st649911/product_39102742.html
http://www.congone-elec.com/ParentList-2576230.html
实验室无掩膜曝光机参数：
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型号 |
CG-MLC |
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ModeⅠ |
Mode Ⅱ |
Mode Ⅲ |
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z小特征尺寸 |
0.5μm |
1μm |
2μm |
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z小线宽线距 |
0.8μm |
1.2μm |
2.5μm |
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CD均匀性 |
10% |
10% |
10% |
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两层对位精度 5x5m㎡ |
500nm |
800nm |
1000nm |
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两层对位精度 50x50m㎡ |
800nm |
1000nm |
1500nm |
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产能 |
50mm²/min |
100mm²/min |
300mm²/min |
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z小基板尺寸 |
5mm x 5mm |
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基板厚度 |
0.1 - 12mm(可选) |
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曝光面积 |
150mm x 150mm |
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灰度曝光 |
可选128阶 |
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曝光光源 |
Laser, 405nm or 375nm |
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