品牌:电子束光刻系统
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专用电子束光刻系统 自动化、稳定性和吞吐量
徽标EBPGPlus浅灰色
EBPGPlus高性能纳米光刻系统可在100kV电压下提供高达8英寸的能力。其全自动化、高速和高分辨率可以为中心的操作以及半导体制造产生的光刻技术。
凭借其创新的架构和具有吸引力的拥有成本，VOYAGER纳米光刻系统降低了高速电子束光刻的准入门槛。
RAITH150两个标志
RAITH150两个直写工具提供超高分辨率EBL和出色的成像能力。亚8纳米结构可以在从几毫米到8英寸晶圆的样品尺寸上实现，而热稳定性即使在具有挑战性的环境中也能支持z高性能。
多技术电子束光刻系统
灵活性、多功能性和SEM成像
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http://www.chxwcx.com/Products-37863288.html
https://www.chem17.com/st207575/product_37863288.html